Спектральный эллипсометр «ЭЛЬФ»

Назначение оборудования • Измерение толщин пленок и толщин слоев в тонкопленочных структурах (металлы, полупроводники и диэлектрики, как твердые, так и жидкие пленки).
• Измерение оптических констант образцов (металлы, полупроводники и диэлектрики, как твердые, так и жидкие среды).
• Исследование структуры материалов (состав, неравномерность пространственного распределения, пористость, степень кристалличности и др.).
• Характеризация поверхности (наличие поверхностных слоев, нанометрическая шероховатость поверхности и др.).
Назначение оборудования • Измерение толщин пленок и толщин слоев в тонкопленочных структурах (металлы, полупроводники и диэлектрики, как твердые, так и жидкие пленки).
• Измерение оптических констант образцов (металлы, полупроводники и диэлектрики, как твердые, так и жидкие среды).
• Исследование структуры материалов (состав, неравномерность пространственного распределения, пористость, степень кристалличности и др.).
• Характеризация поверхности (наличие поверхностных слоев, нанометрическая шероховатость поверхности и др.).